再添资本开支计划，成长主旋律不断增强
项目约定自签订之日起，12个月内完成项目前期工作，并在取得环评批复之日起24个月内一期投产、40个月内全部投产，全部达产后3年内实现年亩均税收不低于20万元。该地块共58亩，依次计算全部达产后总税收不低于1160万元，按照公司2018年报28.6%毛利率、7.0%净利率估算，该项目营收规模约2.3亿元，税后净利约1600万元。公司此前已进行过两轮较大的资本开支计划，分别为：①5月11日获证监会核准的可转债项目中，公司拟投资3.9亿元在四川眉山建设8.7万吨光电显示、半导体用新材料项目；②6月18日与潜江市人民政府签订框架协议，拟投资15.2亿元建设微电子材料项目，产品包括光刻胶及其相关配套的功能性材料、电子级双氧水、电子级氨水等，总产能18.5万吨。与本次安徽项目合计，公司未来资本开支计划合计已高达21.1亿元，仅计算各项目一期资本开支的话，合计也高达11.4亿元。公司半年报固定资产3.5亿元，在建工程0.7亿元，上述巨额资本开支计划将为公司带来相当高的成长预期。
收购派尔森与公司现有锂电和半导体材料等业务形成有效协同
公司于7月16日晚披露关联交易预案，拟以发行股份和支付现金的方式收购载元派尔森100%股权并募集配套资金。派尔森主产品为NMP、GBL，占公司主营业务收入80%以上，下游主要用于锂电新能源、半导体和面板行业。在锂电新能源行业主要用作锂电正极涂布溶剂和导电浆料溶剂，实际上派尔森为三星环新（西安）动力电池在中国的唯一指定 NMP 供应商；半导体和面板行业主要用于光刻胶剥离液和有机物清洗液中。标的公司业务与公司现有锂电新能源、超净高纯试剂、光刻胶等业务能够形成有效协同。
G4、G5级湿电子化学品逐步突破，进口替代进行时
半导体集成电路行业对湿电子化学品纯度要求很高，普遍在SEMI G3等级以上，制程越先进要求越苛刻。我国在中低等级超净高纯试剂领域能满足国内需求，但在G4以上的高等级超净高纯试剂领域与国外尚有差距。晶圆用湿电子化学品国产化率很低，2016年8寸及以上晶圆用超纯试剂国产化率只有10%。IPO募投的超净高纯试剂、光刻胶等新型精细化学品的技术改造项目现已投产，公司氟化铵、硝酸、盐酸、氢氟酸达到G3、G4等级，氨水、双氧水达到G5等级，有效打破国外垄断，推动国产替代。
面板光刻胶龙头，半导体光刻胶逐步追赶
据智研咨询预测，2019年全球光刻胶市场规模可达87.7亿美元，到2022年将突破100亿美元。公司现有光刻胶产能600吨，在建光刻胶(眉山项目)产能2000吨。
公司为国内LCD光刻胶龙头，在触屏LCD用光刻胶领域市占率达30-40%；据我们统计，2017年末我国具备LCD面板产能约8600万平米，至2020年末将增长至约18000万平米，年均增速近30%；随着LCD面板产能高速扩张，公司将大幅受益。
半导体用光刻胶方面，依托国家02专项项目，苏州瑞红已经完成了多款i线光刻胶产品技术开发工作，目前拥有i线光刻胶产能100吨、厚膜光刻胶产能20吨，已向中芯国际、扬杰科技、福顺微电子等客户供货。KrF（248nm深紫外）光刻胶完成中试，产品分辨率达到了0.25~0.13µm的技术要求。
芯片国产化进程加速，带动上游企业发展
中美贸易摩擦为我国敲响警钟。摆脱对西方国家半导体产业依赖、保障国家信息安全，集成电路产业的自主可控是关键。诸多因素利好芯片国产化进程加速。趋势上，全球半导体产业链加速向中国转移，SEMI预计2017-2020年我国将新增26家晶圆厂，占全球新增晶圆厂42%；政策扶持上，今年五月《关于集成电路设计和软件产业企业所得税政策的公告》为半导体企业实施“两免三减半”税收优惠政策；微观层面，国内企业受中美贸易冲突影响，长期来看，将有意调整供应链以分散风险，给国内半导体企业更多机会。半导体产业的良好增长前景带动上游企业一同发展，其中湿电子化学品和光刻胶都是半导体产业链中的关键环节，我国在相应高端领域都存在一定空白。作为湿电子化学品和光刻胶龙头，公司将首先乘上增长浪潮，享受发展红利。公司已经与多家优质客户合作供货。超净高纯试剂方面，正在中芯国际天津等一批标杆性半导体公司线上测试，并实现向华虹、方正半导体供货，正在按计划推进与国内其他8寸和12寸标杆性客户的合作。在当前日韩材料摩擦的大背景下，公司的主导产品超净高纯试剂和光刻胶预计会迎来政府和本土客户的大力支持，获得快速的发展。
预计公司2019、2020年归母净利分别为0.65、0.85亿元，对应PE 37X、28X，维持增持评级。
