专栏名称: 传感器技术
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传感器技术  · 公众号  ·  · 2017-05-28 09:55

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对晶圆进行光刻胶(Photo Resist),在晶圆旋转过程中浇上蓝色的的光刻胶液体,晶圆旋转可以让光刻胶铺的非常薄、平。



光刻胶层随后透过掩模(Mask)被曝光在紫外线(UV)之下,变得可溶,期间发生的化学反应类似按下机械相机快门那一刻胶片的变化。掩模上印着预先设计好的电路图案,紫外线透过它照在光刻胶层上,就会形成微处理器的每一层电路图案。



一块晶圆上可以切割出数百个处理器,不过从这里开始把视野缩小到其中一个上,展示如何制作晶体管等部件。晶体管相当于开关,控制着电流的方向。晶体管及其微小,一个针头上就能放下大约3000万个。



溶解光刻胶:光刻过程中曝光在紫外线下的光刻胶被溶解掉,清除后留下的图案和掩模上的一致。然后光刻,并洗掉曝光的部分。








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