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半导体材料:研发验证门槛高 高端领域缺口大

ICExpo  · 公众号  ·  · 2019-03-13 13:30

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不相同


硅片方面,国内建设热潮不断涌现,截至2018年年底,按各个公司已量产产线披露的产能,8英寸硅片产能已达139万片/月,兴建中的产能达270万片/月;12英寸硅片产能28.5万片/月,兴建中的产能达315万片/月。如果都能如期开出,单纯从产能数据来看,远远超过下游用户需求。不过目前国内12英寸硅片仍几乎百分之百依赖进口,8英寸硅片本土化率也仅为20%。值得一提的是,2018年一季度末,上海新昇12英寸大硅片正片通过了华力微电子的验证并实现销售,但公告显示,销售给华力微电子的数量不多,正在增量过程中。此外,上海新昇大硅片正片已在中芯国际、武汉新芯进行认证,何时验证完成尚未有确切的时间节点。


光掩膜版方面,全球半导体领域80%以上市场份额被Photronics、大日本印刷株式会社DNP和日本凸版印刷株式会社Toppan三家占据。国内从事光掩膜版研究生产的内资企业主要有路维光电、清溢光电等,产品主要应用于平板显示、触控行业和电路板行业,用于集成电路制造的高端光掩膜版则由国外公司垄断。2018年内资企业在集成电路用高端光掩膜版方面,并无实质性进展,相反,Toppan Photomasks公司在2018年年初宣布,将对其位于上海的全资子公司上海凸版光掩膜有限公司(TPCS)追加投资,制造应用于半导体的光掩膜产品,预计于2019年上半年开始生产28纳米和14纳米的光掩膜版。


湿化学品方面,2018年我国6英寸及以上晶圆生产线消耗量超过25万吨,细分领域要求产品达到SEMI标准C8以上和C12水平,而国内技术水平相对较低,因此大部分产品来自于进口。但2018年,在消耗量最大的电子级硫酸方面,国内取得了可喜的突破,4月下旬,晶瑞化学依托下属子公司年产30万吨的优质工业硫酸原材料优势,并结合从日本三菱化学株式会社引进的电子级硫酸先进制造技术,投资建设年产9万吨/年的电子级硫酸项目。该项目建设地址位于江苏省南通市,预计2019年7月正式投产。2018年第三季度,湖北兴福的电子级硫酸技术攻关取得重大突破,产品品质超越SEMI C12级别,与国际电子化学品最大供应商巴斯夫的产品品质处于同一级别,并向部分国内12英寸晶圆厂稳定供货。


电子特气方面,2018年国内半导体用电子特气市场规模约4.89亿美元。经过30多年的发展,我国半导体用电子特气已经取得了不错的成绩,中船重工718所、绿菱电子、广东华特等均在12英寸晶圆用产品上取得了突破,并且实现了稳定的批量供应。2018年5月,中船重工718所举行二期项目开工仪式,2020年全部达产后,将年产高纯电子气体2万吨,三氟化氮、六氟化钨、六氟丁二烯和三氟甲基磺酸4个产品产能将居世界第一。


高纯硅烷方面,中宁硅业利用自产的高纯硅烷为原料,研究开发具有自主知识产权的低温脱轻脱重、多级吸附以及晶硅成膜检测技术制备半导体级硅烷气体,在设备优化、精馏提纯以及成膜检测等关键技术上实现了突破,具备半导体级硅烷气体的产业化生产能力。







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