正文
图3 NCM 和 NCM@PLiMTFSI 的 XPS 光谱:a) 宽扫描;b) Ni 2p 光谱;c) C 1s 光谱;d) O 1s 光谱。
XPS分析(图3a)确认了涂层组成,NCM@PLiMTFSI中出现原始NCM未检测到的F、N、S元素。S 2p谱图检测到SO
2
和C–S特征峰,印证LiMTFSI的存在。Ni 2p光谱显示Ni
3+
比例显著上升,Ni
2+
/Ni
3+
面积比由1.37降至0.19(图3b),表明涂层提高了Ni的氧化态,减少了结构紊乱,与XRD中I
(003)
/I
(104)
比升高一致。C 1s谱图显示,涂层显著降低表面残余碳酸盐含量,CO
3
2-
峰面积比例由12.26%降至8.78%(图3c),反映涂层有助于去除不利残留物。图3d的O 1s光谱揭示,涂层后晶格氧含量提升100.7%,表面活性氧种类减少,说明材料结构稳定性增强。晶格氧峰和表面氧峰向低结合能移动,表明电子重新分布加强了金属-氧相互作用,提升结构完整性。结果表明,PLiMTFSI涂层通过离子-偶极相互作用锚定于NCM表面,有效稳定过渡金属价态、减少阳离子混排、抑制副反应位点及表面氧损失,显著提升富镍层状正极的结构稳定性和界面化学环境。
图4 NCM 和 NCM@PLiMTFSI 的电化学性能。
通过对比原始NCM与NCM@PLiMTFSI的电化学性能,评估了PLiMTFSI涂层的积极作用。循环伏安法(CV)测试(图4a,b)显示,NCM@PLiMTFSI的阳极峰电位差(ΔE
1-3
)为0.24 V,低于原始NCM的0.38 V,表明极化较小、电化学反应更快速且可逆性更好。NCM@PLiMTFSI的阳极与阴极峰电位差(0.28 V)也小于原始NCM(0.39 V),说明界面电阻降低。倍率性能方面(图4c),NCM@PLiMTFSI在0.2C至8C下均优于原始NCM。0.2C下平均放电容量为206.82 mAh g
-1
(原始NCM为183.15 mAh g
-1
);8C下容量为103.08 mAh g
-1
(原始材料为81.54 mAh g
-1
)。恒流间歇滴定技术(GITT)分析锂离子扩散系数(图4d-f)表明,NCM@PLiMTFSI在充放电阶段的D
Li
⁺(分别为2.73 × 10
-11
和2.13 × 10
-11
cm
2
s
-1
)均高于原始NCM(1.81 × 10
-11
和1.63 × 10
-11
cm
2
s
-1
)。这归因于LiMTFSI作为单离子导体的不动阴离子(MTFSI
-
)有助于锂离子高效传输。