10月12-13日｜首届国际先进光刻技术研讨会邀请函

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拟邀请报告：

作为在中国大陆举办的首个此类研讨会，本次研讨会和其它国际光刻会议（如SPIE Advanced Lithography Meeting）有所不同，会议以当前业界最先进的主流技术为主，其目的是研讨未来五年光刻技术所面临的问题，归纳、总结出业界可行的技术方案，为来自国内外光刻领域的优秀研究人员和工程师搭建一个深入讨论的技术交流平台，参会者能够就设计规则、极紫外光刻、掩模、光刻技术方案、计算光刻等分享、探讨各自的研究成果。

作为中国国内的首个高端光刻技术研讨会，本次研讨会的受邀发言者均为来自光刻及其相关领域的国内、外资深专家，代表了其所在领域的国际先进水平。而数量众多的业内领先的国内、外知名参会企业也让报告更加丰富，也更贴近产业。

本次国际先进光刻技术研讨会为期两天，预计将有15-20个报告，在最终确认之前会不断更新调整。随着日期的不断临近，会议邀请报告陆续确认，目前可确认的报告如下：

联系我们：

有意参会者可以通过发送姓名、电话、单位、电子邮箱至 [email protected] 进行报名，我们收到邮件后会在1-3个工作日内进行回复，请耐心等待。也可通过微信邀请函报名。

会议报名费：

参会1000元/人（含早、午自助餐、一次正式晚宴）；在校学生半价。

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