石破天惊!中国中微正式宣布掌握5nm技术！让对手措手不及，难以置信！

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20 多年的经验和基础技术支持，尹志尧和他的团队很快就开发出了第一台国产的生产半导体芯片的设备——等离子体刻蚀机。

等离子体刻蚀机是在芯片上进行微观雕刻，刻出又细又深的接触孔或者线条，每个线条和深孔的加工精度是头发丝直径的几千分之一到上万分之一。

“在米粒上刻字的微雕技艺上，一般能刻 200 个字已经是极限，而我们的等离子刻蚀机在芯片上的加工工艺，相当于可以在米粒上刻 10 亿个字的水平。”尹志尧这样形容到。

一个 16nm 的微观逻辑器件有 60 多层微观结构，要经过 1000 多个工艺步骤，要攻克上万个技术细节才能加工出来。只看等离子体刻蚀这个关键步骤，它的加工尺度为普通人头发丝的五千分之一，加工的精度和重复性要达到五万分之一。

中微在刚刚涉足 IC 芯片介质刻蚀设备时，就推出了 65nm 等离子介质刻蚀机产品，随着技术的进步一直做到 45nm 、 32nm 、 28nm 等，现在 16nm 的蚀机产品已经在客户的生产线上运行了。

据了解，在过去 9 个多月时间里，中微的反应台交付量已突破 400 台；单反应台等离子体刻蚀设备已交付韩国领先的存储器制造商；双反应台介质刻蚀除胶一体机研制成功，这是业界首次将双反应台介质等离子体刻蚀和光刻胶除胶反应腔整合在同一个平台上。

或许正是由于中微在半导体设备领域的突飞猛进，也引来了两家国外竞争对手挑起的知识产权诉讼。不过，凭借过硬的自主技术专利，中微接连获得的胜利。

2008 年前后，正当中微公司自行开发 12 英寸芯片刻蚀机，准备进入国际一流芯片生产线时，两家国际巨头芯片设备公司找上门来。

2007 年中微在美国被行业巨头应用材料公司起诉侵权，但却始终举证无力，中微则抓住机会适时反诉对方不正当竞争，应用材料公司显然对这一情况准备不足，最终不得不撤诉求和。

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