日媒：半导体科技发展趋势有利于中国

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从台积电到阿斯麦尔（ASML），一段时间以来美国频频借助各种手段，将商业问题政治化，打压中国的半导体行业。但《日本经济新闻》在10月21日的一篇评论里指出，随着半导体技术的革新，以及中国科技的发展，未来半导体技术的大趋势，其实有利于中国。

《日经》：半导体科技发展趋势，有利于中国

原日本半导体巨头尔必达社长，现中国芯片制造商紫光集团的高级副总裁坂本幸雄，在文中对中国半导体行业的前景尤为乐观：“当今世界，后来者拥有更好的机会，赶上现在的领导者。”

他还在文中援引一名中国商界人士的话说：“ 中国科技行业的领袖们现在感谢特朗普，因为他帮助他们下定决心，自主开发技术。 ”

文章指出，历史上技术范式的改变，常常能为行业的新参与者创造机会。如今，坂本幸雄也从当今半导体行业的技术趋势中，看出了这种趋势。

晶体管小型化遇瓶颈，3D技术崛起

长期以来，半导体行业都受制于“摩尔定律”，即集成电路芯片上可以容纳的晶体管数目，大约每24个月便会增加一倍。但实际上，大约2005年前后，芯片表面晶体管和电路尺寸的缩小化之路遇到了瓶颈。当时，晶体管的尺寸已缩小至30纳米左右，而这一尺寸，是由一种叫做“栅极”（gate）的中央电极来衡量的。

随后，晶体管的小型化之路趋向缓慢。《日经》称，从32纳米到近期的10纳米，虽然芯片制造商一直在标榜芯片制程的缩小。但从2005年前后，这些数字不再是栅极的实际尺寸了。如今，所谓的“10纳米”或“7纳米”，只是芯片制造商的一种品牌标签。

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